薄膜涂布单元和薄膜涂布方法

专利名称：薄膜涂布单元和薄膜涂布方法

技术领域：
本发明涉及一种薄膜涂布单元和薄膜涂布方法，以便通过向基质例如半导体晶片的表面施加预定涂布液体而形成例如中间层绝缘膜、绝缘膜等，该中间层绝缘膜例如作为装置外涂层的绝缘膜。

背景技术：
作为一种半导体制造方法，为了形成绝缘膜例如中间层绝缘膜，已知这样的技术，即通过在基质例如半导体晶片的表面上施加涂布溶液而制备液体膜，其中，二氧化硅膜的产物母体材料溶解在溶剂中，且该溶剂从该液体膜中蒸发，以便形成绝缘膜，该绝缘膜是包括二氧化硅膜的涂布膜。